IT之家7月6日消息，据报道，ASML试图规避荷兰新的销售许可禁令，针对中国市场推出了特别版DUV光刻机。

消息人士称，如果该项目继续进行，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰设备生产28纳米及更成熟的芯片。

图片来源ASML

据悉，特别版DUV光刻机是基于NXT：光刻系统改造的，不过是10年前推出的老机型，并不在本次官方禁令的范围之内。

是ASML现有的光刻机，效率比较低。 支持NA 1.35光学器件，分辨率可达

大多数晶圆厂都使用光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用光刻机生产7nm芯片。

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